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联系人:夏极
联系方式:13376990653
企业QQ:3004650323
邮箱:3004650323@qq.com
具有外部终端的Prox/SeismicI/O模块
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具有内部屏障的I/O模块,内部终端,4xProx/Accel
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带内部屏障的I/O模块,内部终端,2xProx/Accel和2xVelomitor
135489-03
带内部屏障的I/O模块,内部终端,4xVelomitor
138708-01
带有内部端子的轴I/O模块
138700-01
带外部端子的轴I/O模块
140471-01
带内部终端的Prox/VelomI/O模块
140482-01
带外部终端的Prox/VelomI/O模块
必选
3500/44M
监控模块
3500/44-A01-B00
3500/44-A01-B01
3500/44-A01-B02
3500/44-A02-B00
3500/44-A02-B01
3500/44-A02-B02
3500/44-A05-B00
3500/44-A05-B01
3500/44-A05-B02
3500/44-A06-B00
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3500/44-A07-B00
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3500/44-A07-B02
3500/44-A08-B00
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外部终端块
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128015-03AMC对当前的IC生产其潜在的污染比粒子污染要广泛多,粒子污染控制只要确定粒径及个数,但对AMC控制而言,除了受芯片线宽的缩小而变化外,并受工艺、工艺设备、工艺材料及园片传送系统等的影响,有甚者用于某一工序的各种工艺材料(化学品、特种气体等)在多情况下其微量的分子对下一工序往往可能是污染物,而园片加工工序当前已多于3多个独立工序,对AMC控制指标的确定是复杂。IC生产对AMC的控制,对不同的产品、不同的工艺、不同的工序及不同的工艺材料会有不同的要求,对各种污染物质的要求当前总的说法是控制在亚pptm~1pptm间。